一种图形化复合衬底及LED外延片
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要
本实用新型实施例公开了一种图形化复合衬底及LED外延片。该图形化复合衬底包括：图形化基底；图形化外延缓冲层，所述图形化外延缓冲层覆盖所述图形化基底，所述图形化外延缓冲层背离所述图形化基底的一侧形成有多个第一微结构，所述第一微结构包括第一异质材料结构，所述第一异质材料结构至少位于所述第一微结构的顶部。本实用新型实施例解决了图形化蓝宝石衬底在生长氮化镓外延层时仍存在晶格失配，外量子效率小，发光亮度低的问题，实现了增强光提取效率，改善外延生长质量的效果，有助于提高LED的外量子效率。
基本信息
专利标题 ：
一种图形化复合衬底及LED外延片
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922254470.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-16
授权号 ：
CN211605177U
授权日 ：
2020-09-29
发明人 ：
康凯陆前军向炯
申请人 ：
东莞市中图半导体科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区工业北二路4号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
孟金喆
优先权 ：
CN201922254470.1
主分类号 ：
H01L33/22
IPC分类号 ：
H01L33/22 H01L33/00
法律状态
2021-01-22 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : H01L 33/22
变更事项 : 专利权人
变更前 : 东莞市中图半导体科技有限公司
变更后 : 广东中图半导体科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区工业北二路4号
变更后 : 523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区工业北二路4号
变更事项 : 专利权人
变更前 : 东莞市中图半导体科技有限公司
变更后 : 广东中图半导体科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区工业北二路4号
变更后 : 523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区工业北二路4号
2020-09-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
