一种腔室盖板
授权
摘要
本实用新型公开了一种腔室盖板，属于半导体制造技术领域，包括：板体，图像采集装置，用于采集真空传送腔室中卡盘的图像信息；显示装置，连接图像采集装置；上述技术方案有益效果是：通过在盖板朝向腔室的一面加装图像采集装置，使得操作人员不必再单纯依赖盖板的透明度来观察晶圆与卡盘的相对位置，解决了因盖板透明度下降而导致晶圆与卡盘的相对偏移量判断困难的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种腔室盖板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921706998.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-12
授权号 ：
CN210516681U
授权日 ：
2020-05-12
发明人 ：
何进
申请人 ：
武汉新芯集成电路制造有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖开发区高新四路18号
代理机构 ：
上海申新律师事务所
代理人 ：
俞涤炯
优先权 ：
CN201921706998.1
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-05-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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