气体收集系统及原子层刻蚀设备
授权
摘要
本实用新型提供一种气体收集系统及原子层刻蚀设备，该气体收集系统，应用于原子层刻蚀设备，原子层刻蚀设备包括工艺腔室及供气管路，供气管路向工艺腔室实时供应工艺气体，包括收气管路和收气机构；收气机构通过收气管路与供气管路选择性连通；当供气管路与工艺腔室处于未连通状态时，收气机构收集供气管路内的工艺气体；并且当供气管路与工艺腔室需要处于连通状态时，收气机构与供气管路断开。应用本实用新型，可以将本来被抽至排气管中的工艺气体进行回收，便于提纯后再利用，可以节省大量工艺气体，有效降低了工艺成本。
基本信息
专利标题 ：
气体收集系统及原子层刻蚀设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921719524.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-14
授权号 ：
CN211045371U
授权日 ：
2020-07-17
发明人 ：
陈景春
申请人 ：
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址 ：
北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
彭瑞欣
优先权 ：
CN201921719524.0
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2020-07-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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