半导体结构及半导体封装结构
授权
摘要
本实用新型涉及一种半导体结构，包括：衬底、焊盘、第一保护层、连接插塞、重布线层、凸块、第二保护层；重布线层包括第一金属线、第二金属线；第二金属线不进行任何电连接。由于第二金属线和第一金属线等高，因此第一金属线上的凸块和第二金属线上的凸块相当于形成于同一层，因此第一金属线上的凸块与第二金属线上凸块的共面性较高，第二金属线与焊盘绝缘，因此形成于第二金属线上的凸块并不起导电作用，在衬底翘曲产生应力时将应力转移到第一保护层，本申请的衬底中凸块共面性较好，减小倒装到基板上时出现浸润不良的概率，提高整个封装的可靠性。
基本信息
专利标题 ：
半导体结构及半导体封装结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921919374.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-07
授权号 ：
CN210575840U
授权日 ：
2020-05-19
发明人 ：
范增焰
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
代理机构 ：
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
汪洁丽
优先权 ：
CN201921919374.8
主分类号 ：
H01L21/60
IPC分类号 ：
H01L21/60 H01L21/768 H01L23/31
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件，例如PN结、耗尽层、载体集结层
H01L21/50
应用H01L21/06至H01L21/326中的任一小组都不包含的方法或设备组装半导体器件的
H01L21/60
引线或其他导电构件的连接，用于工作时向或由器件传导电流
法律状态
2020-05-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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