滤波器晶片面取滚筒
授权
摘要
本实用新型公开了滤波器晶片面取滚筒，包括滚筒本体，滚筒本体的内壁上设置有若干波形凸槽，波形凸槽用于增大晶片边沿厚度变化量。本装置在打磨的过程中，能有效的提高晶片边沿的厚度打磨，同时减小中心平台的厚度打磨，进而更有利于晶片的电阻稳定，提高使用效率。
基本信息
专利标题 ：
滤波器晶片面取滚筒
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921937228.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-11
授权号 ：
CN211029546U
授权日 ：
2020-07-17
发明人 ：
王显波王天雄王显文
申请人 ：
四川省三台水晶电子有限公司
申请人地址 ：
四川省绵阳市三台县北坝镇
代理机构 ：
成都行之专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
宋辉
优先权 ：
CN201921937228.8
主分类号 ：
B24B31/02
IPC分类号 ：
B24B31/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B31/00
用工件或磨料散放在滚筒内的滚磨装置或其他装置进行工件表面抛光或研磨的机床或装置；及其附件
B24B31/02
使用旋转滚筒
法律状态
2020-07-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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