一种纳米级薄膜图案电化学刻蚀加工系统
授权
摘要
本实用新型专利公开了一种纳米级薄膜图案电化学刻蚀加工系统，系统包括具有纳米级孔径的毛细管、电解液暂存容器、电解系统、电解液流出控制系统、湿度控制系统、支撑密闭箱、运动定位平台、显微视觉摄像机、减震平台、加工件放置基座和控制计算机；该方法利用纳米级孔径毛细管与被加工薄膜件之间形成的电解液桥将电化学刻蚀反应限制在纳米级范围，通过纳米级平台驱动液桥与被加工薄膜件的相对运动，从而实现纳米级薄膜图案的加工。相比于传统的激光光刻刻蚀加工方法，本实用新型可以单步完薄膜的加工，具有运行成本低，过程简便和加工灵活的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种纳米级薄膜图案电化学刻蚀加工系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921995375.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-18
授权号 ：
CN211595030U
授权日 ：
2020-09-29
发明人 ：
贺晶莹
申请人 ：
邳州市鑫盛创业投资有限公司
申请人地址 ：
江苏省徐州市邳州市炮车街道炮车街
代理机构 ：
南京聚匠知识产权代理有限公司
代理人 ：
沈菊
优先权 ：
CN201921995375.0
主分类号 ：
B81C1/00
IPC分类号 ：
B81C1/00 B82Y40/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B81
微观结构技术
B81C
专门适用于制造或处理微观结构的装置或系统的方法或设备
B81C1/00
在基片内或其上制造或处理的装置或系统
法律状态
2020-09-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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