一种硅片检测系统
授权
摘要
本实用新型提供一种硅片检测系统，包括：第一皮带轮和第二皮带轮，第一皮带轮和第二皮带轮间隔开设置形成间隔空间，第一皮带轮上套设有第一皮带，第二皮带轮上套设有第二皮带，第一皮带能够传送硅片至第二皮带上；在第一皮带和第二皮带的下方分别设置至少一个光源；具有反光缝反光罩，反光罩设在光源的下方且间隔空间位于反光罩的上方；相机设在反光罩的下方且相机的镜头朝向反光缝以拍摄经过间隔空间的硅片的表面。将光源设在皮带的下方，避免产生皮带阴影，光源发出的光线经过反光罩的反射后投射向硅片的下表面，能产生均匀亮度，当有硅片的下表面有油污时，便于精确地检测，提高硅片表面油污检测的精确度。
基本信息
专利标题 ：
一种硅片检测系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922008510.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-20
授权号 ：
CN211043184U
授权日 ：
2020-07-17
发明人 ：
贾永前樊欢欢董慧
申请人 ：
晶海洋半导体材料（东海）有限公司
申请人地址 ：
江苏省连云港市东海县经济开发区西区淮海路6号
代理机构 ：
上海华诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐颖聪
优先权 ：
CN201922008510.4
主分类号 ：
G01N21/94
IPC分类号 ：
G01N21/94
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
G01N21/94
研究污染，例如灰尘
法律状态
2020-07-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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