一种硅片晶花检测系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种硅片晶花检测系统，包括设置在硅片上方的工业相机和两个对称的光源，所述光源包括壳体、LED光源和半球形聚光镜，所述半球形聚光镜前端还设置有渐变滤镜，所述渐变滤镜通过固定圈设置在壳体前端，所述单个光源与相机之间的夹角为25‑30°，所述两个光源之间的夹角为50‑60°，所述光源高度高于相机。本实用新型结构简单，可对硅片进行高亮度及更均匀的补光，从而便于相机获得高质量的图像，以提高检测效率及检测精度。
基本信息
专利标题 ：
一种硅片晶花检测系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020592633.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-20
授权号 ：
CN212341021U
授权日 ：
2021-01-12
发明人 ：
陈维龙吴寅
申请人 ：
无锡维胜威信息科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新吴区菱湖大道111号无锡软件园三期鲸鱼座C603
代理机构 ：
北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
曹玉清
优先权 ：
CN202020592633.7
主分类号 ：
G01N21/84
IPC分类号 ：
G01N21/84
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
法律状态
2021-01-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
