分体式多工序真空镀膜装置
授权
摘要
本实用新型涉及卷绕镀膜技术领域,公开了分体式多工序真空镀膜装置，包括第一室体、第二室体和第三室体，第一室体、第二室体和第三室体共同构成镀膜室，第一室体和第三室体分别设置在第二室体两侧且均可移动。解决的问题是现有技术中，缺少将多种复杂镀膜工序集成的镀膜设备，导致要实现不同镀膜，只能转换镀膜设备，由于转换的过程中，未完成的膜层暴露在空气中，影响后续的镀膜质量。本实用新型将不同的镀膜工序集成一个镀膜室内完成，可一次性的、连续的对材料进行不同的镀膜工序，没有转换设备的工作，膜层始终在真空环境下，避免了转换镀膜设备时膜层暴露在空气中对涂层的不利影响，保证了镀膜的质量。
基本信息
专利标题 ：
分体式多工序真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922078018.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-27
授权号 ：
CN210886217U
授权日 ：
2020-06-30
发明人 ：
陈自新郑立冬朱海锋张艺馨李伟
申请人 ：
无锡光润真空科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新吴区金城东路333-1-102
代理机构 ：
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
朱晓林
优先权 ：
CN201922078018.4
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2020-06-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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