一种用于基板生产的真空镀膜装置
授权
摘要
本实用新型属于基板生产技术领域，涉及一种用于基板生产的真空镀膜装置，其包括输送机构和夹持件，所述夹持件卡合连接在所述输送机构上，所述输送机构包括主动轮、从动轮和传送带，所述主动轮与所述从动轮通过所述传送带传动连接；通过在传送带上卡合连接有夹持件，可将待加工的基板夹持固定在传送带上，然后通过传送带两侧的加热器对基板的两面进行预处理，接着通过靶材对基板的两面进行镀膜作业，使得基板在传送带上进行输送的过程中，可同时对基板的两面进行镀膜作业，以及通过将基板卡合固定在夹持件上，通过夹持件上的夹持板与夹持侧件的相互配合下，使得基板可稳定的放置在传送带上，有效防止基板发生晃动，影响基板的镀膜效果。
基本信息
专利标题 ：
一种用于基板生产的真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922161356.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-05
授权号 ：
CN211311576U
授权日 ：
2020-08-21
发明人 ：
严伯林张军杨凡
申请人 ：
盐城牧东光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省盐城市盐都区盐渎路999号东山精密产业园6号楼(B)
代理机构 ：
北京华际知识产权代理有限公司
代理人 ：
陶小丽
优先权 ：
CN201922161356.4
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2020-08-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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