一种用于曝光机的阵列光源照明装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于曝光机的阵列光源照明装置，包括立柱、照明机构、放置板和滑块，所述立柱的上方安装有两组照明机构，两组照明机构之间预留有间距供驱动电机放置的间距，所述驱动电机固定安装在立柱的顶端面居中部，所述立柱的外部套设有滑块，所述滑块为C形结构，半包围立柱，且滑块的外壁上还固定连接有放置板，所述放置板水平设置在照明机构的下方，所述照明机构至少包括固定板、照明板，所述固定板的前端面开设有移动槽，所述移动槽的一端贯穿固定板，所述照明板的一端沿移动槽伸入。该用于曝光机的阵列光源照明装置，结构合理，使用便利，可广泛推广。
基本信息
专利标题 ：
一种用于曝光机的阵列光源照明装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922199974.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-10
授权号 ：
CN210666334U
授权日 ：
2020-06-02
发明人 ：
蔡春景
申请人 ：
深圳高飞捷科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区石岩街道坑尾大道G58号
代理机构 ：
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司
代理人 ：
李娜
优先权 ：
CN201922199974.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-06-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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