本申请属于离子源辅助镀膜的技术领域，尤其涉及新型耐用的阳极层离子源。所述基座上安装腔、所述基座上端面上设有外阴极和内阴极，且所述外阴极和内阴极与阳极之间留有间隙，所述安装腔内还设有均气座，所述均气座上设有若干等间隔设置且与间隙连通的导气孔，通过增加均气座的结构，使得工艺气体进入到工作的空间前，需要经过均气座上的导气孔，而通过多个等间距设置的导气孔相当于将工艺气体均匀分散，从而使其更均匀的进入到阴极和阳极之间的间隙中，实现其均匀布满工艺气体，达到离子源工作时等离子浓度均衡稳定，使得镀膜的质量更稳定。