一种光谱真空镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种光谱真空镀膜装置，包括真空壳体、显示屏、控制箱、合页、密封门、底座、把手、旋转电机、加热丝、接触式温度传感器、支撑架、传感器架、旋转挂架、试块玻璃、激光收发器、收发器架、轴承座和抽真空箱，所述真空壳体一侧通过螺钉固定连接有控制箱。本实用新型具有通过抽真空箱、旋转电机和旋转挂架的配合，能够保证对产品镀膜的均匀，提高了产品的镀膜效果，实用性较强，通过接触式温度传感器的设计，能够对加热丝的温度进行有效的检测和控制，提高了装置的温控效果，装置稳定性较好，通过所述试块玻璃和激光收发器的配合，能够通过光谱的反射对膜厚进行检测，保证了镀膜的效果，提高了产品的合格率，经济性较好。
基本信息
专利标题 ：
一种光谱真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922414797.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-26
授权号 ：
CN211142142U
授权日 ：
2020-07-31
发明人 ：
赖松生
申请人 ：
量镀（上海）新材料科技股份有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区自由贸易试验区康桥东路1088号第1幢E栋二楼
代理机构 ：
上海微策知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李萍
优先权 ：
CN201922414797.0
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/50 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-07-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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