用于缺陷分类的多波长干涉法
授权
摘要

一种检验系统可包含耦合到差分干涉对比成像工具的控制器,所述差分干涉对比成像工具用于基于两个经剪切照明光束的照明产生样本的图像。所述控制器可基于所述样本上的缺陷的第一图像集确定第一缺陷诱发相移,所述第一图像集具有第一选定照明光谱及所述两个经剪切照明光束之间的两个或更多个选定诱发相差;基于所述缺陷的第二图像集确定第二缺陷诱发相移,所述第二图像集具有第二选定照明光谱及所述两个经剪切照明光束之间的两个或更多个选定诱发相差;及基于所述第一相移与所述第二相移的比较将所述缺陷分类为金属或非金属。

基本信息
专利标题 :
用于缺陷分类的多波长干涉法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112654859A
申请号 :
CN201980057650.0
公开(公告)日 :
2021-04-13
申请日 :
2019-08-29
授权号 :
CN112654859B
授权日 :
2022-05-13
发明人 :
A·曾海伦·刘
申请人 :
科磊股份有限公司
申请人地址 :
美国加利福尼亚州
代理机构 :
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 :
刘丽楠
优先权 :
CN201980057650.0
主分类号 :
G01N21/88
IPC分类号 :
G01N21/88  G01B9/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
法律状态
2022-05-13 :
授权
2021-09-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/88
申请日 : 20190829
2021-04-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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