用于异质外延的石墨烯中间层柔性衬底及其制备方法

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摘要

本公开提供了一种用于异质外延的石墨烯中间层柔性衬底及其制备方法，其用于异质外延的石墨烯中间层柔性衬底，自下而上顺次包括：支撑层和缓冲层，所述缓冲层自下而上顺次包括：至少一个石墨烯缓冲层和至少一个金属膜缓冲层。本公开通过使用石墨烯缓冲层和金属膜缓冲层组合的缓冲层结构，合理利用石墨烯晶格适配小的优点，在金属膜缓冲层的保护下同时可以避免在制备过程中石墨烯被刻蚀，有利于改善单晶金刚石异质外延的质量，以实现大面积高质量的金刚石膜层异质外延生长。

基本信息

专利标题：

用于异质外延的石墨烯中间层柔性衬底及其制备方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111341836A

申请号：

CN202010146464.9

公开（公告）日：

2020-06-26

申请日：

2020-03-05

授权号：

CN111341836B

授权日：

2022-05-03

发明人：

霍晓迪金鹏王占国杜鹏

申请人：

中国科学院半导体研究所;天津市海杰金属制品制造有限公司

申请人地址：

北京市海淀区清华东路甲35号

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

吴梦圆

优先权：

CN202010146464.9

主分类号：

H01L29/16

IPC分类号：

H01L29/16 H01L29/06 H01L21/3205 H01L21/02