本发明公开了一种半导体材料处理系统，包括支架，所述支架底端四角处均固定安装有支撑杆，所述支撑杆顶端和支架顶端边部均固定安装有防护套，所述支架底端中部等距安装有固定杆，通过转动定位清理机构，能够增加石墨坩埚移动时的稳定性，同时能够对石墨坩埚外表面进行测量和清理，降低了石墨坩埚外表面的清理和测量的难度，解决了现有技术石墨坩埚运行时易产生晃动的现象，同时解决了现有技术中石墨坩埚不便于测量和清理的问题，从而提高了人员的操作效率，而且能够在不影响石墨坩埚的正常使用的前提下增加了该石墨坩埚在运行时的安全性，从而增加了该装置的安全系数，降低了该装置的损坏率，从而增加了该装置的使用寿命。