本发明涉及刻蚀相关技术领域，具体是一种等离子刻蚀设备，包括机架和等离子作业架，机架的底部设置有承载基板，定位机构的上设置有夹持块，夹持块的内侧设置有内嵌片，承载基板的上设置有微调轨道，夹持块通过内嵌片安装在微调轨道内，夹持块的内侧设置有内置限位槽，内置限位槽内设置有边沿卡合口，边沿卡合口的内侧设置有绝缘垫片，夹持块的两侧设置内推座，等离子作业架的底端设置有复合压盘，复合压盘的底部设置有盖合槽口，盖合槽口的内腔设置有负电极板，盖合槽口的两端设置有接电桩，接电桩的顶部设置有正电极接头。本申请设计掩模板的表面与被刻蚀金属接触，从而达到刻蚀的技术效果，并且进一步作业的稳定性，保证刻蚀的作业精度。