一种进气结构及等离子刻蚀设备
授权
摘要
本实用新型涉及半导体集成电路制造技术领域，公开了一种进气结构及等离子刻蚀设备。即通过对第一阀门的导通/截止控制，能够将并排的多条进气支路可调地分成两部分：一部分排列相邻的进气支路导入分配后的其中一路进气，另一部分排列相邻的进气支路导入分配后的另一路进气，进而可通过进气支路的可调节组合，来达成对气体分区及室内气体分布影响区域的可调节组合，使得室内不同气体分布影响区域的分界点不再固化，可方便用户进行自定义，最终实现对室内气体分布进行灵活把控的目的，拓展了适用范围，以及大大增加了等离子刻蚀设备在均匀性和一致性方面的调节能力，可提升刻蚀工艺的产品质量。
基本信息
专利标题 ：
一种进气结构及等离子刻蚀设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020748311.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-07
授权号 ：
CN211907380U
授权日 ：
2020-11-10
发明人 ：
吴堃杨猛
申请人 ：
上海邦芯半导体设备有限公司
申请人地址 ：
上海市金山区卫昌路293号2幢12638室
代理机构 ：
成都顶峰专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨国瑞
优先权 ：
CN202020748311.7
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2020-11-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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