一种可生成图案的磁控溅射卷绕镀膜机
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摘要

本发明公开了一种可生成图案的磁控溅射卷绕镀膜机,包括磁控溅射卷绕镀膜机本体,所述磁控溅射卷绕镀膜机本体包括真空室、转动安装在真空室后侧内壁和前侧内壁之间的四个导辊、以及绕设在四个导辊上的模板,所述真空室的左下角开设有L形安装孔,真空室的左侧固定连接有L形卡块,真空室的底部固定连接有左侧为开口设置的圆卡套。本发明设计合理,操作简便,便于根据实际需要快速对模板的张紧度进行调整,提高调整效率,且便于人员快速对可拆式张紧度调整装置拆装,快速拆装的方式也方便人员后续将可拆式张紧度调整装置快速转移至其他真空室上使用,提高其利用率,满足使用需求,有利于使用。

基本信息
专利标题 :
一种可生成图案的磁控溅射卷绕镀膜机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112522678A
申请号 :
CN202011383577.7
公开(公告)日 :
2021-03-19
申请日 :
2020-12-01
授权号 :
CN112522678B
授权日 :
2022-05-03
发明人 :
袁小红王衍刘运娟曾晨梁素贞赵莉林晓华殷薇
申请人 :
闽江学院
申请人地址 :
福建省福州市闽侯县上街镇溪源宫路200号
代理机构 :
西安研创天下知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
郭璐
优先权 :
CN202011383577.7
主分类号 :
C23C14/56
IPC分类号 :
C23C14/56  C23C14/35  C23C14/54  C23C14/04  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备;维持真空的装置,例如真空锁定器
法律状态
2022-05-03 :
授权
2021-04-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/56
申请日 : 20201201
2021-03-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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