钙钛矿薄膜节奏化沉积生产方法与设备
公开
摘要
本发明涉及一种钙钛矿薄膜节奏化沉积生产方法与设备，包括：将预先制备有含钙钛矿前驱体BX2材料的前驱体BX2薄膜的待沉积基片放入沉积反应腔室中蒸发沉积前驱体AX材料，沉积持续一定时间后暂停，使得沉积在前驱体BX2薄膜表面的前驱体AX材料有足够的时间扩散进入前驱体BX2薄膜内从而形成钙钛矿ABX3晶体，暂停一段时间后再一次进行沉积，如此沉积与暂停过程多次交替节奏化反复，使得AX材料进入到BX2薄膜的内部与BX2材料充分反应，从而得到没有BX2材料残留或有AX材料富余的ABX3钙钛矿晶体，直至得到设定膜厚的钙钛矿ABX3薄膜后结束节奏化沉积过程。本发明还公开使用该方法的设备。本发明实现钙钛矿薄膜连续大面积生产，而且还具有高可靠性与可重复性的特点。
基本信息
专利标题 ：
钙钛矿薄膜节奏化沉积生产方法与设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114583060A
申请号 ：
CN202011387375.X
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2020-12-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
杭州纤纳光电科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市余杭区仓前街道龙潭路7号B幢209室
代理机构 ：
杭州奥创知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨文华
优先权 ：
CN202011387375.X
主分类号 ：
H01L51/48
IPC分类号 ：
H01L51/48 H01L51/42 C23C14/24 C23C14/12
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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