箱式镀膜设备
授权
摘要
本实用新型实施例提供的一种箱式镀膜设备,用于非单一平面结构实物的镀膜,包括箱体、真空室、电子枪以及多个离子源;真空室设置于箱体内;电子枪、多个离子源设置于真空室的底面上;多个离子源用于将电子枪产生的离子发射并覆盖在非单一平面结构实物的全部镀膜表面。通过使用上述箱式镀膜设备,以此避免采用传统的箱式镀膜设备对非单一平面结构实物镀膜后存在进行环境测试时膜层脱落或者离子源辅助范围无法完全覆盖导致非单一平面结构实物的镀膜质量不高的问题,有效保证膜层强度和覆盖范围,提高非单一平面结构实物镀膜质量。
基本信息
专利标题 :
箱式镀膜设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020248536.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-03
授权号 :
CN212025444U
授权日 :
2020-11-27
发明人 :
肖畅刘亮章钱国王舰艺
申请人 :
布勒莱宝光学设备(北京)有限公司
申请人地址 :
北京市大兴区经济技术开发区永昌南路2号5号楼
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202020248536.6
主分类号 :
C23C14/30
IPC分类号 :
C23C14/30
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2020-11-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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