一种真空镀膜机物件放置架
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空镀膜机物件放置架,包括真空镀膜机本体,所述真空镀膜机本体一侧固定设置有连接件,所述连接件远离真空镀膜机本体的一侧通过转轴活动设置有箱门,所述箱门内部设置有旋转机构,所述旋转机构包括顶板、转动杆、底板、底座、第一齿轮、第二齿轮,所述箱门内部上端通过转轴活动设置有顶板,所述顶板下端表面通过轴承活动设置有若干转动杆,所述转动杆下端通过轴承活动设置有底板,所述箱门内侧下端中部固定设置有底座,所述底座上端固定设置有第一齿轮。本实用新型使用效果好,可以在顶板和底板转动的同时带动转动杆也发生自转,从而可以提高装置镀膜时的镀膜均匀度,提高其镀膜效果。
基本信息
专利标题 :
一种真空镀膜机物件放置架
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020323998.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-16
授权号 :
CN211972435U
授权日 :
2020-11-20
发明人 :
杨林生
申请人 :
合肥聚盛真空科技有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市经开区紫云路方兴园
代理机构 :
浙江专橙律师事务所
代理人 :
邢万里
优先权 :
CN202020323998.X
主分类号 :
C23C14/50
IPC分类号 :
C23C14/50
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-11-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN211972435U.PDF
PDF下载