一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶
授权
摘要
本实用新型公开了一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶，包括靶材本体、外冷却环本体、中心柱本体、中空槽和清洗结构，所述靶材本体的内部设置有中空槽，且中空槽内部的中心位置处设置有中心柱本体，中心柱本体的一端与靶材本体固定连接，并且中心柱本体的外壁上套装有中心环本体，中心环本体的内壁与中心柱本体的外壁固定连接，所述中心环本体外侧的中空槽内部安装有内冷却环本体，且内冷却环本体一侧的外壁上设置有内冷却槽，所述内冷却环本体外侧的靶材本体内壁上设置有清洗结构。本实用新型不仅避免了靶材表面中毒，提高了靶材的使用效率，而且延长了磁控溅射靶的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种具有在线清洗功能的磁控溅射靶
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020351823.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-19
授权号 ：
CN211620606U
授权日 ：
2020-10-02
发明人 ：
李兰保
申请人 ：
遵化市洪晟霖翼钛金设备有限公司
申请人地址 ：
河北省唐山市遵化市团瓢庄乡洪水川村
代理机构 ：
北京化育知识产权代理有限公司
代理人 ：
尹均利
优先权 ：
CN202020351823.X
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-10-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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