真空泵
授权
摘要
本实用新型公开一种真空泵包括二个转子、汽缸以及旋转驱动结构。该汽缸包括一汽缸壁。该两转子设于该汽缸，该两转子皆包括爪部与凹陷部，凹陷部设于爪部并与汽缸壁形成一闪避空间。旋转驱动结构包括一槽体、多个磁性柱、二个磁性旋转柱和多个电磁线圈。二个磁性旋转柱位于槽体内并分别与两转子枢接。各磁性柱皆包括一第一连接端、一第二连接端、一第一侧边以及一第二侧边，其中各磁性柱分散设置并与槽体以第一连接端连接，且第二连接端环绕两磁性旋转柱。各电磁线圈是分散设各第一侧边及各第二侧边并紧靠槽体。
基本信息
专利标题 ：
真空泵
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020426232.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-27
授权号 ：
CN212640602U
授权日 ：
2021-03-02
发明人 ：
顾崇诚
申请人 ：
信强(宁波)半导体设备制造有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市余姚市欣朗路128号
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
骆希聪
优先权 ：
CN202020426232.4
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C16/54
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-03-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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