太阳能电池纳米晶硅薄膜的物理气相沉积装置及其方法
专利权的终止
摘要
本发明公开了太阳能电池纳米晶硅薄膜的物理气相沉积装置及其方法,涉及能源新材料领域中太阳能电池纳米晶硅薄膜的制作方法;本发明是基于真空镀膜机采用物理气相沉积(PVD)方法沉积纳米晶硅薄膜。其目的是这样实现的:一是设计沉积硅薄膜的真空镀膜机的配置,二是采用离子束方法沉积纳米晶硅薄膜、气相掺杂制备薄膜硅太阳能电池PIN结构的完整工艺。本发明获得纳米至微米尺度的结晶硅薄膜,对于提高硅太阳能电池的光电转换效率,解决非晶硅太阳电池光衰的技术难题和大规模地面应用有重大意义,对于解决制约硅太阳能电池发展的瓶颈,即硅材料的供应,发展节能型高效硅太阳能电池也有重大应用价值。
基本信息
专利标题 :
太阳能电池纳米晶硅薄膜的物理气相沉积装置及其方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1760405A
申请号 :
CN200510019798.5
公开(公告)日 :
2006-04-19
申请日 :
2005-11-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
吴大维吴越侠徐建平
申请人 :
吴大维
申请人地址 :
430071湖北省武汉市武昌区小洪山中区41号4楼7号
代理机构 :
武汉宇晨专利事务所
代理人 :
黄瑞棠
优先权 :
CN200510019798.5
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2016-01-06 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101640730458
IPC(主分类) : C23C 14/24
专利号 : ZL2005100197985
申请日 : 20051114
授权公告日 : 20080430
终止日期 : 20141114
号牌文件序号 : 101640730458
IPC(主分类) : C23C 14/24
专利号 : ZL2005100197985
申请日 : 20051114
授权公告日 : 20080430
终止日期 : 20141114
2008-04-30 :
授权
2006-06-07 :
实质审查的生效
2006-04-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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