化学气相沉积法制备薄膜的装置
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本发明涉及一种化学气相沉积法制备薄膜的装置,其包括一炉管、一用于加热该炉管的加热装置及一设置于该炉管内用于放置待成膜基底的载具;其中该载具与该炉管径向成一锐角设置。

基本信息
专利标题 :
化学气相沉积法制备薄膜的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1940131A
申请号 :
CN200510100091.7
公开(公告)日 :
2007-04-04
申请日 :
2005-09-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
董才士
申请人 :
鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请人地址 :
518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200510100091.7
主分类号 :
C23C16/458
IPC分类号 :
C23C16/458  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2010-08-04 :
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101003708826
IPC(主分类) : C23C 16/458
专利申请号 : 2005101000917
公开日 : 20070404
2007-10-31 :
实质审查的生效
2007-04-04 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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