连续型纳米薄膜制备用气相沉积设备
授权
摘要
本实用新型公开连续型纳米薄膜制备用气相沉积设备，包括导气机构、密封卡条、齿形皮带轮、齿形皮带、定位槽和支撑机构，所述支撑机构的上端面滑动卡接有导气机构，且位于所述支撑机构的内端面对称转动卡接有齿形皮带轮。本实用新型当在进行操作时，使用者可通过外部机构将所需覆膜的工件放置在定位槽的内部，随后启动支撑电机，此时支撑电机能通过齿形皮带轮带动齿形皮带进行间歇性运动，从而方便后续对工件进行快速的覆膜，同时在进行更换工件时，密封挡板内部的多组密封卡槽能与密封卡条配合，进而使得齿形皮带在进行运动时支撑机构内部始终保持密封状态，提高了进行覆膜的稳定性。
基本信息
专利标题 ：
连续型纳米薄膜制备用气相沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021644542.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-10
授权号 ：
CN212864967U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
浦招前
申请人 ：
苏州派华纳米科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区渭塘镇钻石路2008号5号楼3层
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021644542.X
主分类号 ：
C23C16/54
IPC分类号 ：
C23C16/54
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/54
连续镀覆的专用设备
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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