一种气相沉积cvd制备纳米粉的设备
专利申请权、专利权的转移
摘要

本实用新型提供一种气相沉积cvd制备纳米粉的设备。所述气相沉积cvd制备纳米粉的设备,包括:机体;制备桶,所述制备桶设置于所述机体的顶部;活动槽,所述活动槽开设于所述机体的底部。本实用新型提供一种气相沉积cvd制备纳米粉的设备,通过在机体中设置转移结构,在需要转移设备的时候,可直接通过启动驱动电机,最终是使得移动板可以带动其底部的两个万向轮向下延伸,然后将机体撑起,此时只需要一个人推动机体便可轻易对设备进行转移,采用万向轮对设备进行滚动转移,相较于传统人力抬起转移,大大节省了人力,使得转移更加方便、更加轻松,有效的缩短了转移时间,还能够避免转移时设备对人们造成伤害的情况发生。

基本信息
专利标题 :
一种气相沉积cvd制备纳米粉的设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020013588.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-06
授权号 :
CN211256084U
授权日 :
2020-08-14
发明人 :
王开新韩成良谢劲松沈寿国卞正东赵世维
申请人 :
合肥中碳新材料科技有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市经济技术开发区锦绣大道99号合肥学院中德青年创业孵化中心615室
代理机构 :
合肥辉达知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张丽园
优先权 :
CN202020013588.5
主分类号 :
C23C16/44
IPC分类号 :
C23C16/44  B65D25/24  B82Y40/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2020-09-22 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C23C 16/44
登记生效日 : 20200903
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 合肥中碳新材料科技有限公司
变更后权利人 : 合肥中航纳米技术发展有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 230601 安徽省合肥市经济技术开发区锦绣大道99号合肥学院中德青年创业孵化中心615室
变更后权利人 : 231139 安徽省合肥市长丰县岗集镇工业园区
2020-08-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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