一种用于原子层沉积设备进气管路
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于原子层沉积设备进气管路，包括源瓶A、ALD手动阀A、ALD气动阀A、氮气吹扫阀、单向阀A、单向阀B、主管路、反应室、ALD气动阀B、ALD手动阀B、源瓶B；所述源瓶A与ALD手动阀、ALD气动阀连接在管路A上，并且该管路A通过单向截止阀A与主管路连接；所述源瓶B与AlD手动阀B、ALD气动阀B连接在管路B上，并且该管路B通过单向截止阀B与主管路连接；所述主管路的一端与反应室连接，另一端与氮气吹扫阀连接。其具有结构设计合理、操作使用方便，能够有效避免管路因前驱体吹扫不干净导致的管路堵塞，以及提高加工作业的效率。
基本信息
专利标题 ：
一种用于原子层沉积设备进气管路
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020558467.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-15
授权号 ：
CN211947212U
授权日 ：
2020-11-17
发明人 ：
魏守冲
申请人 ：
磐石创新（江苏）电子装备有限公司
申请人地址 ：
江苏省徐州市贾汪区徐州工业园区中经一路西侧
代理机构 ：
北京东方昭阳知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王云涛
优先权 ：
CN202020558467.9
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/44
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2020-11-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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