具有反光识别区的光掩模夹具
专利权的终止
摘要
本实用新型提供一种具有反光识别区的光掩模夹具,用于光掩模工作台,所述光掩模工作台上方具有反光识别探测器,所述光掩模夹具包括:夹具框体;光掩模窗口,位于所述夹具框体中;以及反光识别区,位于所述夹具框体上,并与所述反光识别探测器对准设置。本实用新型在夹具框体上设置具有高反光率的反光识别区,使得不再需要整个光掩模夹具的材质都具有高反射率,可以使用价格较低的金属替代原来昂贵的高反射金属材质,仅需在反光识别区设置高反射材料即可,从而大大降低了光掩模夹具的材料成本及制造成本。
基本信息
专利标题 :
具有反光识别区的光掩模夹具
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020592068.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-20
授权号 :
CN211698589U
授权日 :
2020-10-16
发明人 :
王国荃
申请人 :
上海凸版光掩模有限公司
申请人地址 :
上海市徐汇区宜山路800号
代理机构 :
上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人 :
罗泳文
优先权 :
CN202020592068.4
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-05 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200420
授权公告日 : 20201016
终止日期 : 20210420
申请日 : 20200420
授权公告日 : 20201016
终止日期 : 20210420
2020-10-16 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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