一种基片清洗支撑结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种基片清洗支撑结构，包括支架和多组可拆卸安装于支架顶部的固定机构组，所述支架的中心位置开设有用于与旋转驱动机构相连的竖向的轴孔，多组固定机构组沿轴孔径向间隔布置，每组固定机构组用于固定一个规格的基片，所述基片可通过相应的固定机构组支撑于支架的上方。由此，需要更换不同尺寸的匀胶铬版进行清洗时，只需拆除已清洗的匀胶铬版，再将待清洗的匀胶铬版采用相应的固定机构组固定于支架上，因此无需更换清洗支架，也无需设计多种清洗支架，不仅节约了成本，而且提高了清洗效率。
基本信息
专利标题 ：
一种基片清洗支撑结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020655262.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-26
授权号 ：
CN212285219U
授权日 ：
2021-01-05
发明人 ：
陈保国李弋舟李珍
申请人 ：
长沙韶光铬版有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市芙蓉区长榔路88号
代理机构 ：
长沙正奇专利事务所有限责任公司
代理人 ：
马强
优先权 ：
CN202020655262.2
主分类号 ：
B08B11/02
IPC分类号 ：
B08B11/02 B08B11/04 B08B13/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B11/00
专门适用于清洁柔韧的或精致的物品的方法或装置
B08B11/02
清洁时抓住物品的装置
法律状态
2021-01-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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