一种基片清洗装置
专利权的终止
摘要

一种基片清洗装置,是一种专门为实验室设计的基片清洗装置,可以放置并清洗石英片、透明导电玻璃(ITO)基片、硅片等。尺寸从1cm×1cm、3cm×4cm、10cm×10cm均可,并可同时清洗1cm×1cm的基片150片。可以根据实际需要,配套拆装清洗装置中的不同衬底和隔层,以供放置不同尺寸的基片,达到灵活多用的效果。本实用新型遵循“紧密节约”的设计理念,使得容器中最大容纳基片数量得到大幅提高,减少容器内空间闲置,节省溶液。外层容器装置材料采用石英和四氟聚合物等抗酸碱材料,扩容了可使用清洗溶液的范围。上下开口,可以配套使用循环抽水机提高效率,使得本装置可以作为保存基片的装置置于真空干燥器中。

基本信息
专利标题 :
一种基片清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720148977.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-04-28
授权号 :
CN201030364Y
授权日 :
2008-03-05
发明人 :
李远王晶信心萧新桥孙阳宋晶路
申请人 :
北京交通大学
申请人地址 :
100044北京市西直门外上园村3号
代理机构 :
北京市商泰律师事务所
代理人 :
齐玲
优先权 :
CN200720148977.3
主分类号 :
B08B3/00
IPC分类号 :
B08B3/00  B08B11/02  B08B13/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
法律状态
2012-07-04 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101280109933
IPC(主分类) : B08B 3/00
专利号 : ZL2007201489773
申请日 : 20070428
授权公告日 : 20080305
终止日期 : 20110428
2008-03-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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