一种真空镀膜工艺腔及具有其的真空悬浮镀膜机
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摘要
本实用新型提供了一种真空镀膜工艺腔，包括腔盖、腔壁和腔底板，还包括喷淋系统和加热吹托系统；所述喷淋系统包括成份进道、导流板和喷淋板，所述导流板设置在喷淋板上部，所述导流板中设置导流槽，所述成份进道固定在所述导流板的左、右两端；所述加热吹托系统包括加热板和吹气板，所述加热板提高工艺腔内环境的温度，所述吹气板向薄膜基带的底部吹出惰性气体托起薄膜基带。本实用新型还提供了一种真空悬浮镀膜机，包括前述的真空镀膜工艺腔，还包括放卷腔、放卷过渡腔、收卷过渡腔和收卷腔。本实用新型本采用了一种真空悬浮技术，降低了原本真空镀膜工艺腔中对托辊加工、安装、调校精度要求，另一方面也保证了薄膜运行和镀膜工艺的稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜工艺腔及具有其的真空悬浮镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020793002.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-13
授权号 ：
CN212533117U
授权日 ：
2021-02-12
发明人 ：
胡磊周芸福黎微明李翔胡彬左敏
申请人 ：
江苏微导纳米科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新吴区漓江路11号
代理机构 ：
南京知识律师事务所
代理人 ：
朱少华
优先权 ：
CN202020793002.1
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C16/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-02-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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