一种用于扩散膜生产的真空镀膜装置
专利权的终止
摘要

本实用新型属于真空镀膜技术领域,尤其为一种用于扩散膜生产的真空镀膜装置,包括镀膜箱和冷却箱,所述镀膜箱的内部具有用于扩散膜镀膜的镀膜机构和用于扩散膜输送的滑台,所述冷却箱固定在所述镀膜箱的右侧,所述滑台滑动在所述镀膜箱和所述冷却箱的内壁,所述冷却箱的内部固定连接有内箱;冷却水在流动腔中循环降低了内箱和冷却箱中的热量,从而对镀膜箱的外部进行降温,再将冷却后的空气吹动进入镀膜箱中,增加了镀膜箱中的空气流动的速度,从而对镀膜箱的内部进行降温,可以通过风冷和水冷同时对镀膜箱进行降温,提高了镀膜箱的冷却速度,也避免了水珠依附在腔壁上对设备造成腐蚀的情况出现,实用性强。

基本信息
专利标题 :
一种用于扩散膜生产的真空镀膜装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020881573.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-24
授权号 :
CN212199397U
授权日 :
2020-12-22
发明人 :
刘建琼
申请人 :
刘建琼
申请人地址 :
广东省广州市海珠区新港西路409号丽园雅庭D幢1105房
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202020881573.0
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-05-06 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20200524
授权公告日 : 20201222
终止日期 : 20210524
2020-12-22 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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