动态随机存取存储器之版图结构
授权
摘要

本实用新型公开了一种动态随机存取存储器的版图结构,包括多个字线图案、多个有源区图案以及多个接触图案。字线图案沿第一方向延伸并沿第二方向平行排列。有源区图案与两字线图案相交而被划分成一个中间部及两个端部。中间部的形状为平行四边形,包括一对钝角以及一对锐角。接触图案重叠有源区图案的中间部,并且包括平行于第一方向的一对第一边缘以及位于第一边缘之间的一对第二边缘,其中第二边缘包括阶梯形状。本实用新型之一目的在于提升有源区的切割工艺及/或位线接触插塞工艺的余裕度,以提升有源区的切割准确度及/或减少位线(bit line)与相邻的储存节点接触插塞(storage node contact)之间发生短路的缺陷,提升产品良率。

基本信息
专利标题 :
动态随机存取存储器之版图结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020937257.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-28
授权号 :
CN212135137U
授权日 :
2020-12-11
发明人 :
张钦福林昭维朱家仪童宇诚冯立伟赖惠先
申请人 :
福建省晋华集成电路有限公司
申请人地址 :
福建省泉州市晋江市集成电路科学园联华大道88号
代理机构 :
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 :
王宏婧
优先权 :
CN202020937257.0
主分类号 :
G03F1/70
IPC分类号 :
G03F1/70  H01L21/8242  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/70
与平版印刷工艺要求相适应的掩膜的基板布局或设计,例如掩膜图案成像的第二次迭代校正
法律状态
2020-12-11 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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