一种溅射环件
授权
摘要
本实用新型提供了一种溅射环件，所述溅射环件包括环体，所述环体具有形成端口的第一端部与第二端部，在所述第一端部上设置第一凸结体，在所述第二端部上设置第二凸结体，所述第一凸结体与所述第二凸结体均包括外形凹槽和中心螺纹孔，所述外形凹槽和所述中心螺纹孔的中心轴线重合，所述外形凹槽的凸出长度较所述中心螺纹孔的凸出长度小3.26‑3.76mm。本实用新型将端口处两个凸结体的中心螺纹孔的凸出长度保持不变，通过缩小外形凹槽的凸出长度，使得外形凹槽较中心螺纹孔在凸出长度上小3.26‑3.76mm，有效避免了异常安装导致的凸结体和溅射腔体的间接接触，进而防止了异常通电现象的发生。
基本信息
专利标题 ：
一种溅射环件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020970083.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-01
授权号 ：
CN212505043U
授权日 ：
2021-02-09
发明人 ：
姚力军潘杰边逸军王学泽袁倩倩
申请人 ：
宁波江丰电子材料股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路
代理机构 ：
北京远智汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
王岩
优先权 ：
CN202020970083.8
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-02-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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