单体气化装置及其应用的镀膜设备
授权
摘要
本申请涉及真空镀膜领域，尤其涉及一种单体气化装置及其应用的镀膜设备，单体气化装置包括箱体，箱体内设有用于封装液态单体气的单体容器以及用于对单体容器恒温加热的恒温加热系统，单体容器上还设有出气管，通过恒温加热系统对单体容器加热使液态单体气气化并使气化后的单体气形成一定的带压气源从出气管流出，且单体容器上还设有用于检测单体容器内液态单体气的余量的单体液位测量装置。本申请的单体液位测量装置可实时测量液态单体气液位，以便监测单体气余量，通过恒温加热系统恒温加热单体容器，可使单体容器内温度均匀升高，使得液态单体气气化，从而使单体容器内气态单体形成一定单体压强，保证其真空镀膜时的连续性和稳定性。
基本信息
专利标题 ：
单体气化装置及其应用的镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020997062.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-03
授权号 ：
CN213142177U
授权日 ：
2021-05-07
发明人 ：
高文波李小彭
申请人 ：
洛阳生波尔真空装备有限公司
申请人地址 ：
河南省洛阳市新安县洛新产业集聚区广深路3号
代理机构 ：
中山市捷凯专利商标代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
石仁
优先权 ：
CN202020997062.5
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/54 C23C16/54 C23C16/52 G01F23/00 G01K13/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-05-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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