一种硅片镀膜片
授权
摘要
本实用新型公开了一种硅片镀膜片，包括硅片本体，其特征在于，硅片本体的端面上沉积有复合功能膜层，复合功能膜层包含硅片本体依次向外沉积的氮化硅膜层一、氮化硅膜层二、耐高温阻燃膜层及氧化硅膜层，氮化硅膜层一及氮化硅膜层二的厚度依次递增，氮化硅膜层一及氮化硅膜层二的折射率均大于氧化硅膜层的折射率，耐高温阻燃膜层设于氮化硅膜层二及氧化硅膜层之间。本实用新型的有益效果：本申请通过优化硅片膜层的结构以及厚度参数，使得硅片进行镀膜处理过程中的镀膜效果以及效率得以显著提高，采用本申请优化工艺，能够减少制绒、扩散步骤，降低了对硅片的损伤和硅片碎片率，减少了原料消耗，降低了生产成本，提高了工作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种硅片镀膜片
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021121990.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-17
授权号 ：
CN212517216U
授权日 ：
2021-02-09
发明人 ：
张瑞麟蔡林林李江波曹子玉孙丹芳汪平锋
申请人 ：
利基光电科技（九江）有限公司
申请人地址 ：
江西省九江市经济技术开发区汽车工业园电子配套产业园5号标准厂房
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021121990.1
主分类号 ：
H01L31/0216
IPC分类号 ：
H01L31/0216
法律状态
2021-02-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
