一种低温真空镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种低温真空镀膜装置，包括镀膜机，所述镀膜机的一侧固定安装有真空泵，且镀膜机的内部安装有加热板，所述镀膜机的内部安装有翻转机构，且翻转机构的内部包括有第一伺服电机，所述第一伺服电机与镀膜机的顶端之间为固定连接。本实用新型中，在翻转机构的作用下，通过第一伺服电机的工作，可带动着第一转动杆上的镀膜件来回翻转，便于镀膜件能够镀膜的均匀，通过按住T型杆，使其进入到套管的内部，可使套杆可以上下移动，便于挤压板的移动，可将镀膜件放在挤压板的凹槽内部，通过挤压板向下移动，可将镀膜件固定在挤压板和第一连接板之间，便于翻转时，镀膜件不会脱落，影响镀膜的进展。
基本信息
专利标题 ：
一种低温真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021340215.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-09
授权号 ：
CN213086097U
授权日 ：
2021-04-30
发明人 ：
陈中修谢培康吕存山
申请人 ：
上海英冠镀膜科技有限公司
申请人地址 ：
上海市松江区泖港镇新宾路1582号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021340215.5
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-04-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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