一种低温真空镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种低温真空镀膜设备，具体涉及真空镀膜领域，包括箱体，所述箱体内壁开设有冷却腔，所述箱体内部中层固定设有固定板，且固定板水平方向设有若干组，两组所述固定板之间固定设有冷却盒，所述冷却腔与冷却盒之间固定设有回流管，所述固定板包括导热框、阳极板和活动块，所述阳极板和活动块均固定设于导热框远离冷却盒的侧面，且活动块位于阳极板两侧，所述活动块侧面贯穿有固定夹片，所述活动块靠近导热框端部的固定设有滑块，所述滑块顶部和底部均固定设有固定片。本实用新型通过设有冷却腔、冷却盒和回流管，便于降低箱体内部及靶件的加工温度，靶件直接通过导热框进行降温，保证整体的低温工作。
基本信息
专利标题 ：
一种低温真空镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921928221.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-08
授权号 ：
CN211170861U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
张新岳
申请人 ：
深圳市瑞泓塑胶五金镀膜技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区松岗街道燕川社区新达路13号厂房
代理机构 ：
上海波拓知识产权代理有限公司
代理人 ：
周志中
优先权 ：
CN201921928221.X
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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