一种新型X射线荧光光谱分析用坩埚及其支架和坩埚钳
授权
摘要
本实用新型提供了一种新型X射线荧光光谱分析用坩埚及其支架和坩埚钳，坩埚包括坩埚本体、边沿、侧壁散热片和底部散热片；所述坩埚本体为倒圆台状，坩埚本体的底部为水平面，且底部直径为12mm，坩埚本体的高为5mm；所述边沿设置在坩埚本体上端开口处，边沿的宽度为6mm；所述坩埚本体的厚度为0.6mm，坩埚本体的外侧壁上设有侧壁散热片，坩埚本体的底部设有底部散热片。本实用新型所述的坩埚可以适用于少量样品熔融，散热快且均匀。
基本信息
专利标题 ：
一种新型X射线荧光光谱分析用坩埚及其支架和坩埚钳
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021399007.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-16
授权号 ：
CN212514342U
授权日 ：
2021-02-09
发明人 ：
刘亚轩赵红坤田有国孟远夺顾雪王瑾郝亚波白国栋
申请人 ：
津标（天津）计量检测有限公司;全国农业技术推广服务中心;中国地质科学院地球物理地球化学勘查研究所
申请人地址 ：
天津市西青区学府工业区思智道1号E89
代理机构 ：
天津合正知识产权代理有限公司
代理人 ：
马云云
优先权 ：
CN202021399007.2
主分类号 ：
G01N23/223
IPC分类号 ：
G01N23/223 G01N23/2202 G01N1/44
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/223
通过用X射线或γ射线辐照样品以及测量X射线荧光
法律状态
2021-02-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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