一种薄膜沉积设备用基座支撑机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种薄膜沉积设备用基座支撑机构，包括有反应箱室、基座和支撑管，基座的背面在支撑管的两侧分别固定连接有左散热板和右散热板，反应箱室内的底面上在支撑管的两侧分别设有左底座和右底座，左散热板的一侧与左底座之间转动连接有左支撑连杆组，右散热板的一侧与右底座之间转动连接有右支撑连杆组。本实用新型在基座的背面设置散热板，并在散热板与反应箱室的内底面之间设置包括有四个连杆组合成菱形结构的支撑连杆组，取代了由传统的普通陶瓷的托架对基座的支撑，既具有很高的导热性能，有利于基座的散热，又能够随升降的基座产生可重复进行的伸缩，可为基座提供辅助支撑，适应了薄膜沉积工艺的需要。
基本信息
专利标题 ：
一种薄膜沉积设备用基座支撑机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021402630.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-16
授权号 ：
CN212770953U
授权日 ：
2021-03-23
发明人 ：
余波朱东海权太植蔡广云
申请人 ：
合肥微睿光电科技有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市新站区九顶山路以东、珠城路以南
代理机构 ：
合肥超通知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
余红
优先权 ：
CN202021402630.9
主分类号 ：
C23C16/458
IPC分类号 ：
C23C16/458 C23C16/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2021-03-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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