一种用于化学气相沉积设备的基座去除沉积物的清洁装置
授权
摘要

本实用新型提供一种用于化学气相沉积设备的基座去除沉积物的清洁装置,涉及化学气相沉积设备技术领域,包括清洁装置本体,所述清洁装置本体的进水端通过法兰连接有连接管。本实用新型通过在缓冲板的作用下,可以有效地降低水流速度,防止水流过快对过滤网板造成损坏,在漏斗型槽的作用下,可以收集过滤网板过滤下来的异物颗粒进行收集,同时在L型块的作用下,可以防止T型槽内部的水从漏斗型槽流进第一凹槽的内部,在收集槽块和U型拉环的配合下,可以将漏斗型槽内部收集的异物颗粒收集起来,结构简单,使用效果好,有效地提高了过滤网板的使用寿命,继而提高了清洁装置本体的使用寿命。

基本信息
专利标题 :
一种用于化学气相沉积设备的基座去除沉积物的清洁装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122291343.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-09-22
授权号 :
CN216170267U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
钟兴进何淑英何浩梁林玉章
申请人 :
广州市鸿浩光电半导体有限公司
申请人地址 :
广东省广州市增城区新塘镇荔新十二路96号9幢103房
代理机构 :
广州正驰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
谢如意
优先权 :
CN202122291343.6
主分类号 :
B01D29/03
IPC分类号 :
B01D29/03  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D29/00
不包括在组B01D24/00至B01D27/00中的过滤期间过滤元件不动的过滤器,例如压滤器或吸滤器;其过滤元件
B01D29/01
带有平的过滤元件
B01D29/03
自支撑的
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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