一种具有真空检测装置的光刻机
专利申请权、专利权的转移
摘要

本实用新型公开了一种具有真空检测装置的光刻机,包括光刻机本体,所述光刻机本体内壁底部的右侧活动安装有传动带,所述传动带的左侧设置有真空检测机构,所述真空检测机构包括密封检测罩、伸缩管、连接管和真空泵,所述密封检测罩设置在光刻机本体内壁底部的左侧,所述伸缩管连通在密封检测罩顶部的左侧。本实用新型通过设置真空检测机构,对密封罩进行抽真空,再通过检测板对原料进行检测,从而达到了可以进行真空检测的效果,解决了现有的光刻机不能进行真空检测的问题,该具有真空检测装置的光刻机,具备可以进行真空检测的优点,原料在光刻机加工后不需要使用者将原料拿到真空检测装置内部进行检测。

基本信息
专利标题 :
一种具有真空检测装置的光刻机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021870538.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-31
授权号 :
CN213042110U
授权日 :
2021-04-23
发明人 :
周铁平
申请人 :
周铁平
申请人地址 :
陕西省西安市雁塔区高新路四十八号综合办公楼
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202021870538.5
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-07-20 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G03F 7/20
登记生效日 : 20210708
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 周铁平
变更后权利人 : 上海大尘微影半导体科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 710000 陕西省西安市雁塔区高新路四十八号综合办公楼
变更后权利人 : 200120 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区宏祥北路83弄1-42号20幢118室
2021-04-23 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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