一种半导体材料结晶炉
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体材料结晶炉，包括箱体，箱体的内腔固定连接有挡板，挡板将箱体分为加热腔与冷却腔，加热腔的侧壁固定连接有进料台，挡板的上壁固定连接有分隔层，分隔层的侧壁固定连接有加热筒，加热腔的内侧壁固定连接有支板，支板贯穿分隔层与加热筒，加热腔的侧壁固定连接有移料机构，加热筒与外部电源电连接，箱体的下壁固定连接有支脚，所述支脚的侧壁固定连接有卸料机构，本装置通过设置分隔层实现物料预加热，经过初步加热的物料会通过移料机构推入坩埚内，然后进行提纯，通过预热使对物料的提纯更加充分，从而增加了其结晶炉的提纯效率，设置卸料机构使其防止人员烫伤。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体材料结晶炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022072103.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-21
授权号 ：
CN214148815U
授权日 ：
2021-09-07
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
常州岚玥新材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市金坛区金龙大道563号
代理机构 ：
泉州市兴博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李行
优先权 ：
CN202022072103.2
主分类号 ：
F27B14/10
IPC分类号 ：
F27B14/10 F27B14/08 F27B14/16 F27B14/14 C01B33/037 B01D9/00
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F27
炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备
F27B14/00
坩埚炉或罐式炉；浴炉
F27B14/08
坩埚炉、罐式炉或浴炉特有的零部件
F27B14/10
坩埚的
法律状态
2021-09-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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