光罩保护装置
专利申请权、专利权的转移
摘要

本实用新型实施例提供一种光罩保护装置,涉及半导体技术领域。光罩保护装置包括光罩掩模板、框架和光罩保护膜,框架的一侧连接在光罩掩模板的侧面上,光罩保护膜连接在框架的另一侧,光罩保护膜为刚性透明膜。这样,光罩保护膜使用寿命长,不易损坏,不易产生污染气体,避免膜雾化发霉,能够提高产品良率,降低生产成本。

基本信息
专利标题 :
光罩保护装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022086697.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-21
授权号 :
CN212749518U
授权日 :
2021-03-19
发明人 :
简永浩郑怀志蔡奇澄萧志伟
申请人 :
泉芯集成电路制造(济南)有限公司
申请人地址 :
山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室
代理机构 :
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
严诚
优先权 :
CN202022086697.2
主分类号 :
G03F1/62
IPC分类号 :
G03F1/62  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/62
薄膜或薄膜集合,例如在支持框架上具有薄膜;其制备
法律状态
2021-07-16 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G03F 1/62
登记生效日 : 20210702
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
变更后权利人 : 泉意光罩光电科技(济南)有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 250000 山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室
变更后权利人 : 250000 山东省济南市高新区经十路7000号汉峪金融商务中心A4-(4)办公楼九层904室
2021-03-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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