一种半导体原料的腐蚀清洗装置
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摘要
本实用新型公开了一种半导体原料的腐蚀清洗装置，包括清洗槽、溶剂储槽、腐蚀液储槽、干燥气储罐、去离子水储槽和收集槽；清洗槽的顶部设有排气口；溶剂储槽的底部通过第一管路与清洗槽侧壁顶部连通；腐蚀液储槽侧壁底部通过第二管路与清洗槽侧壁底部连通，第二管路上设有四氟管道泵；腐蚀液储槽的顶部通过第三管路与清洗槽侧壁的顶部连通；清洗槽的底部设有第四管路；干燥气储罐通过第五管路与第四管路连通；第四管路分支为第六管路和第七管路，第六管路与去离子水储槽连通；第七管路通向收集槽；清洗槽侧壁的顶部通过第八管路通向收集槽；各管路上根据需要设置电磁阀。上述装置避免了物料在清洗过程中的运转，降低了成本，提高了效率，提高了清洁度。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体原料的腐蚀清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022129504.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
CN213495346U
授权日 ：
2021-06-22
发明人 ：
陆海凤柯尊斌王卿伟乔印彬
申请人 ：
中锗科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市溧水开发区中兴东路9号
代理机构 ：
南京中律知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李建芳
优先权 ：
CN202022129504.7
主分类号 ：
B08B3/12
IPC分类号 ：
B08B3/12 B08B13/00 F26B21/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
B08B3/12
用声波或超声波振动的（声波或超声波陶器或餐具清洗或冲洗机入A47L15/13；使用超声波技术清洗或冲洗天然牙、假牙或类似于天然牙的入A61C17/20；超声波振动用于一般化学、物理，或物理化学过程中的入B01J19/10
法律状态
2021-06-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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