半导体器件清洗工装
授权
摘要
本实用新型提供了一种半导体器件清洗工装，涉及超声清洗技术领域。清洗工装包括：清洗篮和清洗架；清洗篮包括：垫脚和端板；端板固定在垫脚两端的上方，端板的顶端开设有与垫脚对应的缺口；清洗篮叠放时，上方清洗篮的垫脚容纳在下方清洗篮的缺口内，提高叠放清洗篮的稳定性；端板开设有竖直延伸的销孔，叠放清洗篮的销孔通过销杆连接，进一步提高了叠放清洗篮的稳定性。本实用新型中，叠放的清洗篮放置在清洗架内；有效防止了清洗过程中清洗篮侧翻，规避了其内半导体器件撒出报废的风险，使得清洗架能够进行多层清洗篮叠放清洗，清洗效率显著提升。
基本信息
专利标题 ：
半导体器件清洗工装
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123086479.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-08
授权号 ：
CN216631857U
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
汪良恩杨华田孝强
申请人 ：
安徽安美半导体有限公司
申请人地址 ：
安徽省池州市经济技术开发区富安电子信息产业园10号厂房
代理机构 ：
北京久诚知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
金福
优先权 ：
CN202123086479.X
主分类号 ：
B08B3/12
IPC分类号 ：
B08B3/12 B08B13/00 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
B08B3/12
用声波或超声波振动的（声波或超声波陶器或餐具清洗或冲洗机入A47L15/13；使用超声波技术清洗或冲洗天然牙、假牙或类似于天然牙的入A61C17/20；超声波振动用于一般化学、物理，或物理化学过程中的入B01J19/10
法律状态
2022-05-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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