一种半导体器件清洗机
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体器件清洗机，属于半导体器件生产设备技术领域，包括清洗箱，所述清洗箱为顶面敞口的中空结构，其特征在于，所述清洗箱通过管道与供液罐连接，供液罐为清洗箱供给和补充清洗液；所述清洗箱侧壁上固定有液泵，所述液泵的输入端通过管道连接清洗箱底部，液泵的输出端通过管道连接清洗箱上部；所述清洗箱上方设有安装台，安装台由设置于清洗箱一侧的固定架固定，安装台上设有伸缩气缸，所述伸缩气缸的缸体固定在安装台上，伸缩气缸的活塞端向下穿过安装台并连接一清洗台，所述清洗台的上表面开设有多个供半导体器件置入的安置槽。本实用新型能够快速高效地将半导体器件清洗干净，提高工作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体器件清洗机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022198220.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-29
授权号 ：
CN213793156U
授权日 ：
2021-07-27
发明人 ：
孙翊蒋艳丽秦大飞
申请人 ：
扬州泽旭电子科技有限责任公司
申请人地址 ：
江苏省扬州市江都区仙女镇工业园区江佳路
代理机构 ：
扬州云洋知识产权代理有限公司
代理人 ：
罗雄燕
优先权 ：
CN202022198220.3
主分类号 ：
B08B3/08
IPC分类号 ：
B08B3/08 B08B3/10 B08B13/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/08
具有化学作用或溶解作用的液体
法律状态
2021-07-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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