一种半导体设备的器件清洗装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种半导体设备的器件清洗装置;属于设备清洗技术领域;其技术要点包括一种半导体设备的器件清洗装置,包括底座和清洗罩,底座的两侧表壁共同通过轴承转动连接有第一螺纹杆,第一螺纹杆的另一端延伸至底座的外部并固定连接有第二皮带轮,第一螺纹杆上螺纹连接有螺纹套,螺纹套的上表壁固定连接有固定杆,本实用新型螺纹套通过固定杆带动U型支撑座实现了水平移动,将夹持装置移动至清洗罩的左侧,使超声波发射器对晶片进行清洗,从而实现二次清洗,能够有效的的对半导体设备的器件进行清洗,第二夹板可以水平移动,可以适用于不同大小的晶片。

基本信息
专利标题 :
一种半导体设备的器件清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922362838.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-25
授权号 :
CN212069670U
授权日 :
2020-12-04
发明人 :
韩猛马国乾
申请人 :
武汉越源环保科技有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市江岸区江汉北路164号(云湖大厦)1栋9层9室
代理机构 :
湖北天领艾匹律师事务所
代理人 :
罗浩
优先权 :
CN201922362838.6
主分类号 :
B08B3/02
IPC分类号 :
B08B3/02  B08B3/12  B08B13/00  H01L21/67  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2020-12-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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